李毅安自言自语道。
正是因为在另一个世界有过被卡脖子的经历，所以在研究光刻机上，李毅安一直都是非常用心的。
尽管对于这一领域，他是一个外行，但是靠着系统赋予的技能，光刻机的研究上，他确实给予了很大的指导作用。
走到桌边，李毅安又一次翻开了那份报告，翻到光刻机的内容，看着对光刻机的发展规划。
李毅安自言自语道。
“这种步进式光刻机还有进一步研究的潜力……”
并不仅仅只是潜力。事实上，直到90年代，所有的芯片都是由这种不经时光刻机所生产的，
但是最终他还是淘汰了，因为摩尔定律。随着芯片制程的不断缩小，晶体管密度按照摩尔定律每18个月倍增加。这意味着需要更加优良的光刻机。
在长达20年的时间里，基于透镜组的步进式光刻机，都可以满足这一需要。通过不断对光源以及生产工艺的改进他甚至可以生产几微米的芯片。
直到21世纪初，采用极紫外光源上的EUV光刻机问世，完全颠覆了所有的仪器。
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